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高反射、吸紫外陶瓷釉料及使用該陶瓷釉料制備陶瓷聚光腔的方法

發(fā)布:2007-12-25 9:40:08  來源:  [字體: ]

  本發(fā)明公開一種高反射、吸紫外陶瓷釉料,是在100重量份石英質(zhì)基礎(chǔ)釉料中添加5~20重量份稀土材料,再添加水和甲基纖維素形成釉漿,釉漿施于陶瓷聚光腔坯體表面,低溫烘干后于1160-1200℃下燒釉制成陶瓷聚光腔,所述稀土材料為CeO#-[2]、La#-[2]O#-[3]和Sm#-[2]O#-[3]中的一種或兩種及兩種以上的組合。

   本發(fā)明提供的高反射、吸紫外陶瓷釉料可明顯的改善普通陶瓷聚光腔存在的缺點,具有耐強激光輻照、高絕緣、耐腐蝕、易清洗,吸紫外的特點。

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